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植物冠层分析仪测量时需要考虑的影响因素
点击次数:578 发布时间:2018-01-31
植物冠层图像分析仪主要是用于分析植物冠层特点的仪器,其研究的内容主要是和光有关的,比如冠层光能资源调查,测量植物冠层中光线的拦截,研究作物的生长发育、产量品质与光能利用间的关系等。
 
植物冠层分析仪采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律,在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下,采用半理论半经验的公式,通过冠层孔隙率的测定,计算出冠层结构参数。采用的是对冠层下天穹半球图像分析测量冠层孔隙率的方法。
 
植物冠层分析仪广泛适用于农业、园艺、林业领域有关栽培、育种、 植物群体对比与发展的研究与教学中农作物、果树、森林内冠层受光状况的测量和分析。能测算植物冠层的太阳直射光透过率、天空散射光透过率、冠层的消光系数,叶面积指数和叶片平均倾角等。
 
植物冠层分析仪测量时需要考虑的影响因素:
 
1、斜坡的影响:应该使传感器保持与斜坡相匹配,而不是实际的水平。
 
2、样地尺寸:如果样地尺寸太小,要注意保证传感器的视野范围是冠层高度的3倍,可以采用去除第5个环的数据来解决这个问题,也可以采用观察帽的方法。
 
3、光线:直射的阳光:应尽可能避免直射的阳光,尽量在日出日落时或多云的天气进行测量,如果避免不了,那么需要注意:使用270度的遮盖帽或更小的视野遮盖帽;背对阳光进行测量,遮挡住日光和操作者本身;对植物冠层进行遮阴处理;天空云分布不均匀导致光线不均匀的天气条件:等待云彩飘过并遮挡了阳光时再进行测量。适宜光线条件:均匀的阴天或者散射光照下才能测量。zui易找到合适的测量时间往往是黎明之前和日落之后的瞬间。作为一般原则,如果可以看到地上的影子或者林冠上有阳光照射的叶子,这时的天空的光照条件就没有满足。
 
4、叶片与传感器的距离限制:一个叶片与传感器的距离是重要的,太近将导致测量的误差。简单的计算方法是根据采用的遮盖帽的角度来得到距离因子参数,再除以B值的重复次数,再乘以叶片的宽度,即得到zui小需要的距离了。如果距离无法缩小,可以考虑增加重复次数来解决这个问题。
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